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亚星私网１７６７６８６５０５８欧博一比一操作万利公司研发费用金额较高且占营业收入的比例较大，因此扣除非经 常性损益后尚未实现盈利。2018-2021 年，公司研发费用率分别为 152.84%、29.58%、 28.18%、38.04%，维持高位。与此同时，随着持续不断地投入技术研发，公司产品日益 成熟，客户认可度逐年提高，公司的亏损呈现收窄趋势，盈利能力逐步改善。 2021 年，公司毛利率大幅上升至 44.01%，已高于国内可比公司，并向国际主要竞争 对手看齐。2018-2021 年，由于 PECVD 销售毛利是公司主营业务毛利的主要来源，因此 公司毛利率与 PECVD 毛利率相近，由 31.67%逐年上升至 44.01%。同时随着期间费用率 下降，公司净利率改善明显，2021 年公司净利率为 8.83%，实现由负转正。

亚星私网１８３２０４９８８０４万利一比一合作欧博公司 PECVD 设备贡献主要营收，且毛利率逐年上升。2018-2021 年，PECVD 设备营 收由 0.52 亿元攀升至 6.75 亿元，CAGR 达 135.52%。PECVD 的高增长主要是因为下游需 求增加，以及公司不断创新、积累技术，从而获得多家客户验证、认可。PECVD 设备的毛 利率由 2018 年的 29.25%逐年上升至 2021 年的 42.64%，主要是随着技术水平、市场地 位的提升，公司议价能力有所提高，加之公司产品也开始进入价格更高的先进制程设备市 场。 1.3 业绩实现高增长，盈利状况逐年改善 经营业绩实现高增长，扣非亏损逐年收窄。2018-2021 年，公司营收 CAGR 高达 120.56%，2021 年营收 7.58 亿元，同比增长 73.99%，实现高速增长。主要原因有：1） 外部大环境良好：全球半导体行业处于需求增长的上行周期，下游晶圆厂的需求增加，对 半导体专用设备的需求也随之上升；2）国际设备厂商的垄断被逐渐打破：国内半导体产业 逐步成熟，晶圆制造厂商出于供应链安全与成本控制的考虑，开始选择国产半导体设备；3） 公司前期的积累逐步进入收获期：凭借自身技术优势和创新能力，公司的薄膜沉积设备在 前期通过了多家客户的验证。

亚星私网１５２１８２７１４７９欧博代理一比一万利公司聚焦薄膜沉积设备，三大系列均已批量供货国内主要集成电路晶圆厂产线。公司 主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次 常压化学气相沉积（SACVD）设备三大系列薄膜沉积设备。经过十余年的积累沉淀与快速 发展，公司已形成覆盖二十余种工艺型号的薄膜沉积设备，可以满足下游集成电路制造客 户产线对于不同材料、不同芯片结构薄膜沉积工序的设备需求。目前，三大系列产品均已 批量发往国内主要集成电路晶圆厂产线，广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电 路制造产线，累计发货超 150 台，并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试。